RK-3000
是一系列用于X射线衍射和散射分析的硬件和软件解决方案
包括相鉴定、定量相分析、微观结构和晶体结构分析、残余应力和织构研究、X射线反射法、小角散射分析和对分布函数分析以及微区衍射。
○ 标配密封陶瓷X射线光管，功率大，亮度高，可持续工作，长期可靠性好
○ 高运动精度测角仪，配合高精密光学元件，可提供高准直、高单色的X射线光束
○ 二维光子计数探测器，具有很高的空间分辨率，可以大幅度提高测试效率
○ 具有良好的兼容性和扩展性，支持模组快捷切换，以满足不同应用场景的需求
○ 智能光路系统:光路自动切换、模组自动识别
大功率光管(两种靶材可选)
Cu靶：标配光源，波长=1.54Å，适用于绝大部分X射线衍射实验和应用场景
Mo靶：波长=0.71Å，主要针对轻元素(如 Li、B)材料和超高分辨(如半导体应变层)的衍射实验
模块化与自动化设计
系统具有模组自动识别功能，可随时了解系统配置状态
光路自动调整，可有效降低实验难度，提高实验效率
不同光路之间可自动切换，大大提高实验的自动化程度
超高分辨率
高精度测角仪，配合光学编码器的全闭环控制，可实现的定位精度为0.0001°
X射线多层膜反射镜(Goebel镜)，用于X射线光束修饰，可提高光束的准直性和平行性，并有效去除特征光谱中的Kβ部分
Ge220双晶单色器，用于X射线光束修饰，可进一步提高光束单色性，是超高分辨率衍射的必备光学元件
可选配二维单光子计数探测器，具有大面积（有效面积77.1x38.4毫米）、高空间分辨率（最小像素75x75微米）和高计数率
半导体
关键技术：高分辨衍射(HRXRD)、X射线掠入射(GIXRD)、X射线反射率(XRR)
具体应用场景：二维薄膜材料厚度密度粗糙度、半导体异质结的晶体质量与缺陷
新能源
关键技术：高分辨衍射(HRXRD)原位X射线衍射(In-situXRD)
具体应用场景：电极材料结构表征、钙钛矿薄膜结晶度测定、硅基异质结界面缺陷分析
制药
关键技术：粉末衍射(PXRD)毛细管衍射
具体应用场景：药物晶型筛选与质量控制、催化剂表征
纳米材料
关键技术：小角/广角X射线散射(SAXS/WAXS)
具体应用场景：纳米颗粒的尺寸分布与聚集状态、碳纳米管/石墨烯的层间间距与取向性
金属与合金
关键技术：残余应力(RS)、织构(Texture)
具体应用场景：合金的轧制织构对力学性能的影响、马氏体相变动力学
地质与环境
关键技术：粉末衍射(PXRD)、原位X射线衍射(In-situXRD)
具体应用场景：矿物组成与结构分析、环境污染物检测
高分子材料
关键技术：粉末衍射(PXRD)织构(Texture)
具体应用场景：结晶度与取向性分析、原位拉伸/压缩测试
纳米材料
关键技术：高分辨衍射(HRXRD)、原位X射线衍射(In-situXRD)
具体应用场景：低维材料与量子材料、原位/工况表征
项目 | 规格参数 |
| X射线光源 | 最大输出功率：≥3kW（额定电压：60KV，额定电流：20-60mA） |
最大输出功率：≥9kW（可选）（额定电压：20-45KV，额定电流：20-200mA） | |
靶材Cu | |
焦斑大小（其他规格可定制）：0.4×12mm | |
| 测角仪 | Θ/θ垂直测角仪 |
2θ转动范围：-110°-168° | |
角度定位：步进电机+光学编码器 | |
| 软件及数据库 | 智能控制分析软件（AI物相识别、数据库检索） |
COD数据库 | |
正版Jade软件、Match软件（可选） | |
| 角度准确度 | 国际标准样品现场检测，全谱范围内所有峰的角度偏差≤±0.01° |
| 探测器 | 二维阵列光子计数器探测器（2D） |
子探测器个数：≥512×512个 | |
探测器有效面积：≥38×38 mm2 | |
| 背景：<0.1 cps； | |
| 一维阵列探测器（选配） | |
| 样品台 | 标配：Z轴可调样品台 |
自动进样器≥12位（可选） | |
五轴样品台：X,Y,Z,Phi，Chi（可选） | |
| 光学元件 | 自动化调整 |
高强度单色化X射线反射镜，有效去除白光和Cu靶材的Kβ波长，Kβ波长去除率可达99.5%以上（可选） |