Dimension IconIR300

Dimension IconIR300™大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有优秀的测量能力、样品尺寸和材料类型灵活性。通过光热红外光谱技术和纳米级原子力显微镜(AFM)性质成像能力的结合，IconIR300 能够实现自动化晶圆检测和缺陷识别，适用于广泛的晶圆和光掩模样品测量。该系统显著扩展了AFM-IR技术在半导体行业的应用范围，超越了传统技术所能达到的领域。

IconIR300建立在Dimension IconIR系统开创性大样品架构之上，提供相关显微镜和化学成像，与传统技术相比增强了空间分辨率和灵敏度。可与自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件集成，该系统可节省时间和成本，提高生产效率。

On仅Dimension IconIR300系统提供：

• Whole-wafer, non-destructive measurement of 200 mm and 300 mm wafers;

200mm和300 mm晶圆进行全面、无损测量

• Unambiguous identification of organic and inorganic nano-contaminants on semiconductor wafers and photomasks with data directly correlating to FTIR libraries;
  识别半导体晶圆和光掩模上的有机和无机纳米污染物，数据直接与FTIR库相关联分析

• Non-destructive step-height measurement and nanoscale material property mapping; and

无损台阶高度测量和纳米级材料性质成像；以及

• Automated, recipe-based measurements and KLARF file support for user-friendly access to comprehensive data.

自动化、程式化测量和KLARF文件支持，方便用户访问全部数据。

配置布鲁克AFM-IR模式和PeakForce Tapping®性质成像模式，结合IconIR300的大样品架构，为广泛的半导体应用提供大的样品灵活性。IconIR300提供直径高达300 mm样品的全面测量，包括各种厚度和材料类型的样品，例如：

• 有机和无机样品
  

• 图案化的晶圆
  

• 裸晶圆
  

• 光掩模
  

• 数据存储介质晶圆

AFM-IR是纳米红外领域的首选技术，Bruker是光热AFM-IR纳米红外光谱技术的创新者。

Dimension IconIR300提供：

• 高精度、丰富、详细的纳米光谱，与FT-IR光谱一致，实现纳米级薄污染物测量；

• 支持各种样品的多种高级测量和操作模式，适用于工业和学术用户；

• 半导体应用中领先的高性能AFM-IR光谱技术；以及

• 用于聚合物薄膜的可靠表面灵敏化学测量

Dimension IconIR300的AFM性能和Bruker的Tapping AFM-IR成像技术，提高了纳米红外技术的空间分辨率和样品尺寸的适用范围。

Dimension IconIR300提供：

• 优于10 nm空间分辨率的化学成像，用于各种样品类型的化学成像，包括有机和无机污染物；

• 提供一致、可靠、高质量的数据；以及

• AFM-IR技术，用于消除全部机械伪影，确保只收集真正的化学成分信息。

关键自动化能力包括：

·         台阶高度测量以及纳米级材料性质成像

·         光学和AFM图像的图案化识别

·         探针位置校正

·         支持全晶圆或网格成像

·         图像定位精度在几十纳米以内

·         复杂、简单的程式化编写；以及

·         KLARF文件导入能力，支持纳米红外自动化测量

这些能力，结合具有高分辨率红外光谱的纳米级化学表征，使学术和工业用户能够克服传统半导体材料缺陷识别的限制。