Dimension IconIR300™大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征,具有优秀的测量能力、样品尺寸和材料类型灵活性。通过光热红外光谱技术和纳米级原子力显微镜(AFM)性质成像能力的结合,IconIR300 能够实现自动化晶圆检测和缺陷识别,适用于广泛的晶圆和光掩模样品测量。该系统显著扩展了AFM-IR技术在半导体行业的应用范围,超越了传统技术所能达到的领域。
IconIR300建立在Dimension IconIR系统开创性大样品架构之上,提供相关显微镜和化学成像,与传统技术相比增强了空间分辨率和灵敏度。可与自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件集成,该系统可节省时间和成本,提高生产效率。
On仅Dimension IconIR300系统提供:
Whole-wafer, non-destructive measurement of 200 mm and 300 mm wafers;
200mm和300 mm晶圆进行全面、无损测量
Unambiguous identification of organic and inorganic nano-contaminants on semiconductor wafers and photomasks with data directly correlating to FTIR libraries;
识别半导体晶圆和光掩模上的有机和无机纳米污染物,数据直接与FTIR库相关联分析
Non-destructive step-height measurement and nanoscale material property mapping; and
无损台阶高度测量和纳米级材料性质成像;以及
Automated, recipe-based measurements and KLARF file support for user-friendly access to comprehensive data.
自动化、程式化测量和KLARF文件支持,方便用户访问全部数据。